德国MueTec公司创建于1991年。通过同莱卡Leica Microsystems Semiconductor 公司多年的紧密合作，MueTec在掩膜CD测量方面创立了一套独有的标准。到目前为止，已经有超过200套的MueTec测试系统正在世界各地稳定而可靠的运行着。

　 通过十多年的努力，MueTec在纳米级测量重复性的光学测量领域内积累了极为丰富的专业经验和专门技能。对于客户特殊的测量测试要求，MueTec可以提供各种客户定制型的高精度测量解决方案。所有这些也确立了MueTec在测量设备领域内国际领先的地位。